МОСКВА, 10 дек - РИА Новости. Российские специалисты разработали первые отечественные кластерные установки плазмохимического травления и осаждения для производства микрочипов, говорится в сообщении Минпромторга РФ.
"Российские ученые создали важное оборудование для производства микрочипов. По заказу Минпромторга России АО "НИИМЭ" совместно с АО "НИИТМ" разработали первые отечественные кластерные установки плазмохимического травления и осаждения, предназначенные для производства электронных компонентов с проектными нормами до 65 нм",- говорится в сообщении.
В министерстве пояснили, что такое оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции.
"Ключевая особенность - работа в вакууме - заготовки для чипов обрабатываются без контакта с воздухом, что предотвращает загрязнение и значительно увеличивает количество успешно произведенных изделий", - добавили в Минпромторге.
В ведомстве подчеркнули, что внедрение такого оборудования позволит модернизировать производство и станет значительным шагом к развитию полного цикла изготовления микроэлектроники в России.
При перепечатке и цитировании (полном или частичном) ссылка на РИА "Новости" обязательна. При цитировании в сети Интернет гиперссылка на сайт http://ria.ru обязательна.
