ПЕКИН, 21 мар – РИА Новости. Вашингтон не действует себе на пользу, препятствуя технологическим обменам с Китаем, США в конечном счете рискуют потерять и огромный китайский рынок, и собственные перспективы использования высоких технологий, заявила директор Института промышленно-экономических исследований Китайской академии общественных наук (КАОН) Ши Дань.
"В физике существует закон возрастания энтропии, который заключается в том, что если ваша система изолирована, то она будет иметь тенденцию к умиранию. Таким образом, те стены, которые США возводят вокруг "маленького дворика" на первый взгляд выглядят как препятствование обменам высокими технологиями с Китаем, но, на самом деле, США таким образом теряют собственные перспективы использования высоких технологий, а также и обширный китайский рынок", - сказала Ши Дань на мероприятии, посвященном вопросам развития китайской промышленности, в Пекине.
Она также отметила, что "в долгосрочной перспективе это не пойдет на пользу США, хотя сейчас это и оказывает определенное влияние на экономическое развитие Китая".
"Думаю, что и высокие стены вокруг "маленьких двориков", и технологические блокады - это все краткосрочные явления. Если смотреть с точки зрения глобального экономического развития, то не важно, развивающиеся это страны или развитые, все должны проводить более открытую политику", - считает Ши Дань.
В октябре 2022 года США объявили о введении ряда правил, ограничивающих экспорт оборудования и комплектующих для производства передовых микросхем компаниям, расположенным в Китае. Годом позже министерство торговли США опубликовало ряд новых ограничений на экспорт таких полупроводников. Эти правила изменили определения микросхем для искусственного интеллекта и ввели дополнительные лицензионные требования для их поставок более чем в 40 стран, чтобы избежать их перепродажи в Китай.
При перепечатке и цитировании (полном или частичном) ссылка на РИА "Новости" обязательна. При цитировании в сети Интернет гиперссылка на сайт http://ria.ru обязательна.
Комментарии отключены.
