МОСКВА, 18 сен - РИА Новости. Россия планирует завершить создание литографа, специального оборудования для нанесения рисунка на микросхемы, на 130 нанометров в следующем году, сообщил замглавы Минпромторга РФ Василий Шпак.
Литография в области микроэлектроники представляет собой процесс создания очень мелких структур на поверхности полупроводниковых материалов, которые формируют микросхемы. Такая технология важна для создания, например, микропроцессоров.
"В следующем году у нас в планах завершить создание литографа уже на 130 нанометров. Будем двигаться поступательно", - сказал Шпак в эфире радио РБК.
Он напомнил, что первый в России литограф на 350 нанометров уже создан совместно с Белоруссией. Ожидается, что поставка такой продукции на российские фабрики начнется со следующего года.
При перепечатке и цитировании (полном или частичном) ссылка на РИА "Новости" обязательна. При цитировании в сети Интернет гиперссылка на сайт http://ria.ru обязательна.
