МОСКВА, 10 фев - РИА Новости. Американская корпорация Intel, производящая широкий спектр электронных устройств и компьютерных компонентов, намерена в ближайшие два года инвестировать семь миллиардов долларов в строительство новых производственных мощностей в США, заявил во вторник президент и главный исполнительный директор фирмы Пол Отеллини.
В сообщении на официальном сайте компании говорится, что средства будут вложены в строительство современных производственных объектов для внедрения 32-нанометровой технологии производства полупроводниковых микросхем.
Это крупнейшие по размеру инвестиции Intel в новую технологию, призванную увеличить скорость работы чипов, уменьшив при этом их размер и потребление энергии.
Средства будут вложены в существующие производственные комплексы в штатах Орегон, Аризона и Нью-Мексико, где трудятся в общей сложности 7 тысяч человек.
При перепечатке и цитировании (полном или частичном) ссылка на РИА "Новости" обязательна. При цитировании в сети Интернет гиперссылка на сайт http://ria.ru обязательна.
Комментарии отключены.
